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陶瓷-金属材料实用封接技术(第二版)书籍详细信息

  • ISBN:9787122106056
  • 作者:暂无作者
  • 出版社:暂无出版社
  • 出版时间:2011-05
  • 页数:暂无页数
  • 价格:60.10
  • 纸张:胶版纸
  • 装帧:精装
  • 开本:16开
  • 语言:未知
  • 丛书:暂无丛书
  • TAG:暂无
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内容简介:

  《陶瓷-金属材料实用封接技术(第二版)》为作者历经50年的生产实践和研究试验的总结,除对陶瓷?金属封接技术叙述外,对常用封接材料(包括陶瓷、金属结构材料、焊料)以及相关工艺(例如高温瓷釉制造、陶瓷精密加工等)也进行了介绍。《陶瓷-金属材料实用封接技术(第二版)》特别叙述了不同封接工艺的封接机理,强调了当今金属化配方的特点和玻璃相迁移方向的变化,并介绍了许多常用的国内外金属化配方,以资同行专家参考。

《陶瓷-金属材料实用封接技术(第二版)》适用于真空电子器件、微电子器件、激光与电光源、原子能和高能物理、化工、测量仪表、航天设备、真空或电气装置、家用电器等领域中,并适合各种无机介质与金属进行高强度气密封接的科研、生产部门的工程技术人员阅读使用,也可作为大专院校有关专业师生的参考书。


书籍目录:

第1章 陶瓷-金属封接工艺的分类、基本内容和主要方法

 1.1陶瓷-金属封接工艺的分类

 1.2陶瓷-金属封接工艺的基本内容

  1.2.1液相工艺

  1.2.2固相工艺

  1.2.3气相工艺

 1.3陶瓷-金属封接工艺的主要方法

第2章 真空电子器件用陶瓷-金属封接的主要材料和陶瓷超精密加工

 2.1概述

 2.2陶瓷材料

  2.2.1al2o3瓷

  2.2.2beo瓷

  2.2.3bn瓷

  2.2.4aln瓷

  2.2.5cvd金刚石薄膜

  2.2.6高温瓷釉

 2.3精细陶瓷的超精密加工

  2.3.1概述

  2.3.2陶瓷超精密机械加工的几种方法

  2.3.3陶瓷超精密加工的关键

  2.3.4结束语

 2.4金属材料

  2.4.1w、mo金属

  2.4.2可伐等定膨胀合金

  2.4.3特种w、mo合金

  2.4.4无氧铜和弥散强化无氧铜

  2.4.5焊料

第3章 陶瓷金属化及其封接工艺

 3.1概述

  3.1.1金属化粉及其配方

  3.1.2金属化配膏和涂层

  3.1.3金属化烧结工艺流程

  3.1.4等静压陶瓷金属化

 3.295%al2o3瓷晶粒度对陶瓷强度和封接强度的影响

  3.2.1概述

  3.2.2陶瓷样品的制备

  3.2.3晶粒度的测定

  3.2.4mo粉颗粒度fmo?01

  3.2.5金属化配方和规范

  3.2.6不同晶粒度的陶瓷强度和对封接强度的影响

  3.2.7讨论

  3.2.8结论

 3.3表面加工对陶瓷强度和封接强度的影响

  3.3.1概述

  3.3.2实验材料和方法

  3.3.3实验结果

  3.3.4讨论

  3.3.5结论

 3.495%al2o3瓷中温金属化配方的经验设计

  3.4.1概述

  3.4.2金属化配方中活化剂的定性选择

  3.4.3活化剂质量分数的定量原则

  3.4.4讨论

  3.4.5具体计算

  3.4.6结论

 3.5常用活化mo-mn法金属化时mo的化学热力学计算

  3.5.1概述

  3.5.2化学热力学计算

  3.5.3实验结果与讨论

  3.5.4结论

 3.6活化mo-mn法陶瓷-金属封接中玻璃相迁移方向的研究

  3.6.1概述

  3.6.2实验方法

  3.6.3实验结果与讨论

  3.6.4结束语

 3.7活化mo-mn法陶瓷金属化时mo表面的化学态——aes和xps在封接机理上的应用

  3.7.1概述

  3.7.2实验程序

  3.7.3表面分析和结果

  3.7.4结论

 3.8陶瓷低温金属化机理的研究

  3.8.1概述

  3.8.2实验方法和程序

  3.8.3实验结果

  3.8.4讨论

  3.8.5结论

 3.9电力电子器件用陶瓷?金属管壳

  3.9.1概述

  3.9.2管壳生产的工艺流程

  3.9.3管壳用陶瓷零件

  3.9.4管壳用金属零件

  3.9.5陶瓷-金属封接结构

  3.9.6国内和国外管壳生产的不同点和差距

 3.10陶瓷金属化厚度及其均匀性

  3.10.1概述

  3.10.2活化-mo-mn法金属化层厚度和过渡层的关系

  3.10.3金属化层厚度和组分的均匀性

  3.10.4手工笔涂法和丝网套印法的比较

  3.10.5结论

 3.11活化mo-mn法金属化机理——mno?al2o3物相的鉴定

  3.11.1概述

  3.11.2实验程序和方法

  3.11.3结果和讨论

  3.11.4结论

 3.12封接强度和金属化强度

  3.12.1概述

  3.12.2实验程序

  3.12.3实验结果

  3.12.4讨论

  3.12.5结论

 3.13陶瓷-金属封接生产技术与气体介质

  3.13.1应用

  3.13.2讨论

  3.13.3结论

 3.14不锈钢-陶瓷封接技术

  3.14.1常用封接不锈钢的分类和特点

  3.14.2典型的几种不锈钢-陶瓷封接结构

  3.14.3结论

 3.15美国氧化铝瓷金属化标准及其技术要点

  3.15.1astm规范

  3.15.2coors企业规范

  3.15.3wesgo公司标准

  3.15.4几点结论

 3.16俄罗斯实用陶瓷-金属封接技术

  3.16.1封接制造工艺流程

  3.16.2陶瓷金属化膏剂组分和膏剂制备

  3.16.3电镀工艺、装架和焊接规范

 3.17陶瓷纳米金属化技术

  3.17.1概述

  3.17.2实验程序和方法

  3.17.3实验结果

  3.17.4讨论

  3.17.5结论

 3.18毫米波真空电子器件用陶瓷金属化技术

  3.18.1概述

  3.18.2金属化层的介电损耗

  3.18.3组分和介电损耗的关系

  3.18.4金属化层的烧结技术

  3.18.5讨论

  3.18.6结论

 3.19陶瓷?金属封接结构和经验计算

  3.19.1典型封接结构

  3.19.2经验计算

  3.19.3结论

 3.20陶瓷-金属封接中的二次金属化和烧结ni技术评估

  3.20.1国内外镀ni液的现状和发展

  3.20.2等效烧结ni层(包括ni-p)对封接强度的影响

  3.20.3结论

 3.21陶瓷二次金属化的工艺改进

  3.21.1材料、实验方法和结果

  3.21.2讨论

  3.21.3结论

 3.22显微结构与陶瓷金属化

  3.22.1概述

  3.22.2目前管壳用电子陶瓷的体系和性能

  3.22.3当前我国管壳陶瓷金属化技术状况

  3.22.4结论

 3.23陶瓷-金属封接技术的可靠性增长

  3.23.1概述

  3.23.2关于界面应力的评估

  3.23.3关于陶瓷表面粗糙度

  3.23.4结论

 3.24陶瓷金属化玻璃相迁移全过程

  3.24.1概述

  3.24.2实验程序和方法

  3.24.3讨论

  3.24.4结论

 3.25陶瓷?金属封接技术应用的新领域

  3.25.1概述

  3.25.2固体氧化物燃料电池

  3.25.3惰性生物陶瓷的接合

  3.25.4高工作温度、高气密性、多引线芯柱

  3.25.5陶瓷-金属卤化物灯

 3.26近期国外陶瓷?金属封接的技术进展

  3.26.1实验报告

  3.26.2分析报告

 3.27二次金属化中的烧结ni工艺

  3.27.1应用背景

  3.27.2烧结ni的基本参数和工艺

  3.27.3电镀ni和烧结ni、显微结构差异及ni粉细化

第4章 活性法陶瓷?金属封接

第5章 玻璃焊料封接

第6章 气相沉积金属化工艺

第7章 陶瓷-金属封接结构

第8章 陶瓷-金属封接生产过程常见废品及其克服方法

第9章 陶瓷?金属封接的性能测试和显微结构分析

第10章 国内外常用金属化配方

附录

 附表1电子元器件结构陶瓷材料(国家标准)

 附表2al2o3陶瓷的全性能和可靠性

 附图1cao-al2o3-sio2相图

 附图2mgo-al2o3-sio2系平衡状态图

 附图3cao-al2o3-mgo部分相图

 附图4cao-mgo-sio2相图

 附图5mg2sio4-caal2si2o8?sio2假三元系统相图

 附图6金属和陶瓷的线(膨)胀系数比较(0~100℃)

 附图7氢气中金属与其金属氧化物的平衡曲线

 附图8ag-cu-ni(银-铜-镍, silver-copper-nickel)相图

参考文献


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  • 故事情节:4分

  • 人物塑造:4分

  • 主题深度:8分

  • 文字风格:6分

  • 语言运用:6分

  • 文笔流畅:5分

  • 思想传递:3分

  • 知识深度:5分

  • 知识广度:9分

  • 实用性:7分

  • 章节划分:4分

  • 结构布局:9分

  • 新颖与独特:3分

  • 情感共鸣:3分

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